NIKKEI——日本经济新闻中文版

　　记者：有客户来咨询吗？

　　岩本和德：收到了半导体厂商、大学、研究所的很多咨询。这些机构为了早日实现微细化而进行研发，但引进EUV（极紫外线）光刻设备需要庞大成本，作为替代措施纳米压印备受期待。不仅是闪存，还有（用于个人电脑等的）DRAM及逻辑等多种半导体用途的需求。

　　记者：纳米压印实现普及面临的课题是什么？

　　岩本和德：压印时容易产生叫做粒子的垃圾。需要提高去除微小粒子垃圾的技术。将通过高精度过滤器和空气幕控制垃圾。

　　能在多大程度上延长掩膜寿命也很重要。制作微细掩膜的工作最难，生产掩膜需要时间和成本成为课题。另外，使用时如果有垃圾进入，掩膜就会破损。因此，我们公司也开发了制作量产用途使用的复制品掩膜的设备。 

　　记者：今后如何进行技术革新？

　　岩本和德：将使用客户半导体工厂引入的演示机，在现场持续改善掩膜和材料。为了能在量产中高效使用，需要与客户协调一致。在得到结果反馈的同时，提高水平。

　　记者点评 量产实用化仍存在课题

　　佳能的纳米压印技术在半导体生产的核心“光刻工序”中刮起新风。半导体的历史可以说是电路图微细化的历史，决定电路线宽的光刻设备也反复改变“游戏规则”。 

　　透镜和光学技术出色的日本佳能和尼康在2000年代曾是占世界光刻设备市场大部分的豪强。但荷兰ASML开发出利用名为“极紫外线”的短波长的EUV光刻设备，EUV成为尖端半导体光刻的主流。设备厂商也自然分化，佳能主要面向功率半导体等成熟产品。

　　纳米压印有将技术实力提高到EUV线宽水平的余地，佳能有可能在“成熟和尖端”半导体设备领域都扩大市场。与使用强光的传统光刻相比，纳米压印理论上可以实现低成本、低能量的微细加工。

　　佳能押注其他公司没有的纳米压印的优势，持续进行投资。经过10年终于上市销售，刚刚打开了实用化的大门。但现场的质疑声也很强烈，比如有半导体厂商高管说：“掩膜的垃圾容易进入，实现量产实用化还有障碍”等。佳能需要对整个供应链进行研发并实现突破。

　　记者为日本经济新闻（中文版：日经中文网）松浦奈美