NIKKEI——日本经济新闻中文版

　　佳能面向绘制半导体电路不可或缺的光刻工序，推出了搭载自主 “纳米压印（Nano-imprint）”技术的设备。跟利用强光在晶圆上烧刻电路的普通方法不同，纳米压印的原理是像印章一样压印原版。由于可以降低成本和耗电量，因此备受半导体厂商期待。日本经济新闻（中文版：日经中文网）记者采访了佳能的半导体机器业务部长岩本和德，请他介绍了技术优势、课题及业务预期。

岩本和德

　　记者：纳米压印是什么样的技术？

　　岩本和德：就是把刻有半导体电路图的掩膜压印到晶圆上。在晶圆上只压印1次，就可以在合适的位置形成复杂的二维或三维电路。如果改进掩膜，甚至可以生产电路线宽为2纳米的产品。

　　特点是设备构造简单。与使用很多透镜，一边照射光一边烧刻电路的传统方法相比，耗电量降至10分之1。设备价格也相对便宜，可以低成本实现半导体微细化。

　　由于可以1次形成三维电路，还可以用于生产需要微细化到几十纳米的XR（虚拟现实·增强现实·混合现实等的总称）用超透镜（Metalens）等。

　　记者：客户的成本实际降低多少？

　　岩本和德：（客户的成本）因条件而异，据估算1次光刻工序需要的成本有时降至传统光刻设备的一半。（纳米压印）设备的规模减小，在研发等用途也方便引进。

佳能推出的纳米压印半导体生产设备

　　记者：此次发售的经过是什么样的？

　　岩本和德：从2017年左右开始，我们与铠侠（Kioxia，当时是东芝存储器）和大日本印刷3家公司持续进行合作开发。大日本印刷负责生产掩膜，铠侠在四日市工厂等验证把设备用于生产闪存。

　　量产用途的实用化已有眉目，我认为可以面向客户销售。在3家公司以外，也将增加从事纳米压印开发和生产的合作伙伴，希望扩大生态系统。

　　记者：纳米压印光刻设备有其他竞争公司吗？

　　岩本和德：面向半导体光刻，开展纳米压印设备业务的在全世界只有我们公司，准入门槛很高。我认为纳米压印的难度在于重叠精度。需要在晶圆上定位以准确重叠掩膜，本公司通过以往的光刻设备培育的测量技术发挥了作用。