NIKKEI——日本经济新闻中文版

      各企业加快EUV设备开发的背景是，韩国三星电子和台积电（TSMC）等展开的微细化竞争。面向5G等高性能半导体的需求旺盛，两家企业正在争夺每台超200亿日元的ASML光刻机。在这一过程中，周边的制造设备企业的商机也在扩大。

      国际半导体设备与材料协会（SEMI）和日本半导体制造装置协会（SEAJ）的统计显示，日本造的半导体制造设备的市场份额2019年为31.3％，在过去约20年内徘徊在3成左右。

      在光刻设备领域，此前尼康和佳能曾席卷世界市场，但在与ASML的竞争中失败，在EUV开发方面掉队。在半导体领域，随着制造流程变得困难，赢家通吃的倾向不断加强。以EUV为契机的代际更迭还将加速设备企业的优胜劣汰。

      设备流通停滞 市场扩大蒙阴影

      “中国市场的尖端设备投资已经停止”，EUV相关零部件企业的负责人唉声叹气。由于荷兰政府不予批准，ASML一直无法向中国出口EUV光刻机。此外，周边设备和零部件的洽购也处于停止状态。

      背后存在中美的贸易摩擦。如果无法进口ASML的设备，中国的半导体厂商将在微细化竞争中落后。中国政府提出到2020年半导体自给率达到40％、2025年达到70％的目标，但处于难以实现的局面。很多观点认为，美国向荷兰政府施加压力，将其用作制裁的武器。

      国际半导体设备与材料协会的统计显示，2019年的半导体制造设备市场规模为597亿美元，比2014年增长59％。在此期间提升存在感的是中国市场，占世界整体的份额从2014年的11.6％提高至22.5％。对日本的半导体制造设备企业来说，中国已成为难以忽视的市场。

      EUV的技术开发难度大，各企业的研发成本都在膨胀。如果市场不再扩大，企业的投资回收将推迟，新技术的开发有可能难以推进。

      日本经济新闻（中文版：日经中文网）广井洋一郎

小资料   EUV（极紫外）光刻机：从2019年起被大型企业正式采用的最尖端的半导体制造设备。只有荷兰的ASML在世界上实现量产。半导体的电路线宽越细小，处理能力越高。如果使用EUV，能使线宽降至7纳米以下。5纳米的半导体与10纳米相比，按单纯计算可在相同面积上配备4倍的晶体管。