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凸版印刷将在华生产最尖端半导体用掩膜板

2018/01/19

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  日本凸版印刷公司将在2018年度内开始在中国生产最尖端半导体的掩膜板(光掩膜,Photomask)。伴随半导体厂商相继在中国新建工厂,中国在全球市场上存在感日益增强。凸版印刷计划通过在中国当地生产最尖端产品来缩短交货期,2020年之前把在华市场份额由目前的5成提高到7成。

    

  掩膜板是将半导体电路印到硅晶圆上时使用的电路图案原板。电路线宽越窄,半导体性能越高,但迄今为止凸版印刷在上海生产的掩膜板最多只能印上线宽为90纳米的电路。

 

  凸版印刷最早将在2018年春季开始生产支持65纳米线宽的掩膜板,2018年度内开始生产支持14纳米线宽的产品。不仅将把日本的设备引入中国,还将进行新的设备投资。投资额可能会达到数十亿日元。

  

  凸版印刷此前从日本或台湾的生产基地向大陆出口最新的掩膜板。如果在大陆当地生产,就能省去通关手续,可使交货期缩短3天左右。

  

  包括大型半导体代工企业中芯国际集成电路制造(SMIC)的新工厂在内,中国未来几年内预计将有十余家半导体工厂开工生产。据国际半导体设备与材料协会(SEMI)介绍,2017年中国的掩膜板需求占全球的3%。有观点认为,2020年这一数字将提高至20%。

    

  在传统商业印刷业务逐渐缩小的背景下,凸版印刷强化了收益良好的掩膜板业务。计划在中国生产最尖端产品,把中国在掩膜板业务上的销售占比由目前的1成提高至超过两成,同时将全球市场份额由3成多提高到4成。

   

  在其他企业方面,大日本印刷公司也加入掩膜板竞争,计划今后5年内向中国市场投资180亿日元。将在福建建设工厂,2019年春季前后开始量产。

    

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