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日本MRAM研发领先,耗电降至1/50

2021/07/29

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  在50多年的时间里,半导体的性能通过电路线宽微细化取得了飞跃性进步。关于一块芯片上集成的元件数量,英特尔1971年发布的首个CPU(中央处理器)约为2300个,苹果最新的“M1”芯片为160亿个,增加到约700万倍。

       

  但进入2010年代以后,电路线宽开始逼近原子大小,微细化越来越接近极限。在要求更高性能的AI时代到来之前,除微细化之外,还需要其他的突破来提高性能和降低耗电量。利用自旋性质的MRAM是有力候选。

    

        

  日本在MRAM研发领域领先。日本经济新闻(中文版:日经中文网)在日本专利调查公司Patent Result的协助下,调查了MRAM有效专利数量(日本国内)。结果发现,铠侠(KIOXIA,原东芝存储器)、索尼集团、东北大学等跻身前十。日本的企业和大学在美国专利排行榜中也名列前茅。

   

  索尼集团在6月举行的国际学会上发布了可与主力产品CMOS(互补金属氧化物半导体)图像传感器层叠的MRAM技术。用一块芯片来完成照片拍摄、图像处理、数据保存,使手机摄像头有望实现小型化和高速运行。

    

       

  日本产业技术综合研究所开发出了采用特性均一的单晶记忆元件的MRAM制造技术。要想在数据中心等使用的AI运算半导体中使用MRAM,需要制造微细的记忆元件。与现行的多晶产品相比,单晶记忆元件更容易推进微细化。日本产业技术综合研究所的汤浅新治表示,“希望5~10年达到实用化”。

       

  在MRAM的制造设备方面,东京电子和爱德万(Advantest)开展相关业务。日本经济产业省6月提出振兴半导体产业的战略,也有可能助力日本企业恢复国际竞争力。

                   

  在海外企业中,美国半导体初创企业Ambiq Micro开发出了嵌入MRAM的省电微控制器。中国OPPO等手机厂商决定在智能手表上采用。

      

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