NIKKEI——日本经济新闻中文版

      日本三菱化学计划2021年在台湾新建新一代通信标准“5G”等半导体使用的高性能化学品工厂。由于与台湾厂商的交易量大，因此三菱化学决定在当地投资。整体产能将比现在提高5成。在半导体尖端材料方面，日本企业占有优势，但韩国和中国企业也在通过自主生产紧紧追赶，三菱化学将通过先行投资保持领先优势。

三菱化学在台湾增产半导体清洗剂

      据统计，日本材料企业在半导体相关领域的全球份额超过5成。不过，目前韩国SK Materials已开始量产高纯度氟化氢，中国化工集团也将最早在2021年新建半导体制造用的特殊气体工厂。

      在国际竞争越来越激烈的背景下，三菱化学将在台湾的新竹市新建半导体制造使用的清洗剂工厂。清洗剂在祛除附着在硅晶圆等物体上的微小杂质等工序中使用。台积电（TSMC）是其主要客户，向尖端产品的制造工序供货。预计投资额为十几亿日元。

      三菱化学在半导体材料方面，拥有可满足纯度及客户细节要求的高水平生产技术。随着通信高速化等，半导体需求预计将扩大，在这种背景下，将通过对高性能产品的投资来应对中韩企业的崛起。