NIKKEI——日本经济新闻中文版

      在成为电路源的沟槽和孔洞的蚀刻设备方面，东京电子介绍了可以提高生产效率的“Episode UL”。该设备可以使处理晶圆的反应室“chamber”的数量在4个至12个之间自由变换，能配合工厂的布局削减设置面积。

      东京电子还致力于数据分析，通过分析从制造设备获得的传感器数据，使制程条件实现最优化。在材料的探索方面则将应用AI。有望取得同时优化制程条件和材料的效果，据称这一方式正在应用于蚀刻金属氧化物的材料的调查。

      此外，东京电子还具有通过AI来优化等离子体增强原子层沉积（PE-ALD）的制程等成绩。解决了此前通过人力探索条件、难以找到最佳条件的课题。

      2020年11月，东京电子将软件研发基地“TEL数字设计园区”转移至日本北海道的札幌市，正在加强有助于DX（数字化转型）的开发体制。

      世界的半导体设备市场受中美摩擦等影响，前景并不明朗，但根据目前的旺盛需求等，该公司认为在2022年度之前将持续增长。

      鉴于在家办公的普及和在线服务的需求增加，数据中心投资有望进一步扩大。要提升竞争力、争取需求，需要具备更高的技术。

      日本经济新闻（中文版：日经中文网）佐藤雅哉