日本主力化学企业ADEKA将在2023年度，把用于尖端半导体电路形成的材料的产能提高至目前的约2倍。将投入27亿日元，在千叶工厂增建生产线。这种材料支持最尖端的半导体制造技术“EUV（极紫外）”光刻，受全球需求增加推动，将启动增产。

  　　

　　在半导体晶圆上形成电路时需要使用光刻胶，ADEKA的材料会被混入光刻胶中使用。

　　　 

将进行增产的千叶工厂

 　　

　　在照射紫外线和红外线之后，这种材料会产生使光刻胶凝固的酸。优势是支持各种波长，ADEKA的全球份额仅次于排在首位的东洋合成工业。

 　　

　　极紫外光刻技术被用于制造电路线宽为7纳米以下的半导体，清除微细异物的品质管理也不可或缺。ADEKA此次还将引进能清除异物的设备。

  　　

　　极紫外光刻设备正被世界大型半导体厂商使用，相关材料的需求也在增加。

    　　　

 

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